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Parylene采用一种独特的化学气相沉积工艺（CVD），CVD工艺最早应用在半导体工业的外延生长，整个过程是气态反应，又在真空条件下进行，因而可以获得非常均匀的涂层，达到其它方法难以实现的同形性。
气态单体进入沉积腔室，首先弥漫在工件表面，当吸附到各个表面后开始聚合和结晶，直接形成固体，避免了液相的出现，清除了厚度的不均匀和涂层中的缺陷.
Parylene是在专用的真空气相沉积设备中，通过升华（120℃/1.33Mpa）→裂解（650℃/1.33Mpa）→气化（120℃/1.33Mpa）→沉淀涂层（25℃/1.33Mpa）→ 这几个步骤来完成对工件表面的涂膜。
1，在真空状态下和120度的条件下将固态原料升华成气态
2，在650度将气态原料裂解成具有反应特性的活性单体。
3，活性单体在室温条件下沉积并聚合
涂膜的工艺特点：
与通常的浸涂、喷涂、电镀、电泳等工艺不同的是，该工艺在预处前无需对工件进行酸洗、磷化，有效地防止了工件内因残留酸和水及氧气而引起的由内而外的腐蚀现象。
由于Parylene是在真空环境中作气相沉积，因而陡直的边沿、裂缝、还是细微的针孔内壁，都能进行有效的渗透,且各处均匀一致。其生成的透明膜层厚度可以轻易地控制在0.1-100微米之内。
PARYLENE膜层的主要特点：
可形成无针孔膜层； 可得到极薄的膜层；
可精确地控制膜层厚度； 各处厚度均匀一致；
有极好的防潮湿性能； 可以抗风化
可防止产品表面微粒脱落； 材料无色并高透明度;
具有极高的绝缘强度； 高热稳定性（使用温度可高达400℃）
深圳市东田精密光电有限公司
电话：13823121472
联系人：张小姐 QQ：1311719714
传真：0755-28110952
网站：www.dt-parylene.com
地址：深圳市宝安区龙华大浪赖屋山第一工业区一栋 |
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