高端研发领域专用的多入射角激光椭偏仪，采用多项专利技术，仪器硬件和软件具有多项定制功能设计，适用于光面或绒面纳米薄膜测量、块状固体参数测量、快速变化的纳米薄膜实时测量等不同的应用场合。 产品特点： 1.高精度、高稳定性 2.一体化集成设计 3.测量简单 4.快速、高精度样品方位对准 5.多角度测量 6.实时测量 7.丰富的材料库及物理模型 8.强大的数据分析和管理功能 应用领域： 可应用于纳米薄膜的几乎所有领域，如微电子、半导体、生命科学、电化学、显示技术、磁介质及金属处理等。可对纳米层构样品的薄膜厚度和折射率n及消光系数k进行快速、高精度、高准确度的测量，尤其适用于科研和工业产品环境中的新品研发及质量监控，可用于表征单层纳米薄膜、多层纳米层构模系，以及块状材料（基底）。

技术指标：

激光波长	632.8nm(He-Ne laser)
膜层厚度精度	0.01nm(对于Si 基底上110nm 的SiO2 膜层
折射率精度	1x10-4 （对于Si 基底上110nm 的SiO2 膜层
光学结构	PSCA
激光光束直径	<1mm
入射角度	40°-90°可选，步进5°
样品方位调整	三维平移调节；±6.5mm（X-Y-Z三轴） 二维俯仰调节：±4° 光学自准直系统对准
样品台尺寸	Φ 170mm
单次测量时间	0.2s
推荐测量范围	0-6000nm
最大外形尺寸（长x宽x高）	887x332x552mm(入射角为90°时
仪器重量（净重）	25kg